作為蒸發源的材料要具備熔點高、揮發低、高溫冷卻后脆性小等性質。蒸發源材料在選購過程中，需要注意很多問題，建議大家找靠譜的蒸發源材料廠家。下面南京皮埃路電子技術有限公司介紹一下蒸發源材料上哪買。

蒸發鍍膜常稱真空鍍膜。其特點是在真空條件下，材料蒸發并在玻璃表面上凝結成膜，再經高溫熱處理后，在玻璃表面形成附著力很強的膜層，所產生的離子或原子在適當工藝條件下可以在基板上形成各種功能的薄膜。例如：鐵電性能薄膜、柔性薄膜等。目前有70多種元素、50多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。南京皮埃路是專業蒸發源材料生產研發公司之一，在本文為大家總結關于蒸發源材料的相關內容。

通常對蒸發源材料應考慮蒸發源的材料和形狀，一般對蒸發源材料的要求是：

(1) 熔點高。因為蒸發源材料的蒸發溫度(平衡蒸汽壓為1.3Pa的溫度)多數在1000 ~ 2000℃之間，因此，蒸發源材料的熔點應高于此溫度。

(2) 平衡蒸汽壓低。這主要是防止或減少高溫下蒸發源材料隨蒸發材料蒸發而成為雜質，進入蒸鍍膜層中。只有在蒸發源材料的平衡氣壓足夠低時，才能保證在蒸發時具有小的自蒸發量，才不致影響系統真空度和污染膜層。

(3) 化學性能穩定，在高溫下不應與蒸發源材料發生化學反應。在高溫下某些蒸發源材料，與蒸發源材料之間會產生反應及擴散而形成化合物和合金。特別是形成低共熔點合金蒸發源材料容易燒斷。因此，應選擇不會與鍍膜材料發生反應或形成合金的材料做該材料的蒸發源材料。

高純熱蒸發源包括高純金屬如Al、Sb、W、Ba、Cr、Mo、Nd、Ru等,高純貴金屬如Au、Ag、Pt、Pd等，高純金屬化合物如ZnO 、ZnS、ZnSe、TiN、ZrC、AlF3、KF、ITO、TiO2、SiO2、Fe2O3、Al2O3、Gd2O3等。

本文以皮埃路電子技術有限公司生產的高純鉑顆粒（Pt）為例為大家介紹一下蒸發源材料的具體指標。

1.高純鉑顆粒的物理性質：顏色銀白色，密度為21.45g/cm3，熔點為1774℃，沸點為3825℃。

2.高純鉑顆粒的產品規格：蒸發溫度為2020℃，常規尺寸：φ2*5mm、φ3*3mm、φ3*6mm或按客戶要求定制。

想要購買蒸發源材料的客戶，歡迎咨詢皮埃路電子技術有限公司。

皮埃路電子自成立以來，始終秉承客戶至上，質量至上的理念，根據客戶的要求生產穩定可靠的靶材產品。皮埃路電子技術有限公司是南京政府321項目資助的高科技公司，由新加坡南洋理工大學、南京理工大學、南京航空航天大學和南京大學的幾位教授負責技術指導。我們樂意為您定制高純、高密度的濺射靶材，方便您進一步通過磁控濺射、脈沖激光沉積（PLD）系統制備高質量的薄膜。

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